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加熱制冷循環(huán)器MD40-20$n提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

低溫冷卻液循環(huán)泵（-20℃～室溫）$n低溫冷卻循環(huán)裝置采用PID微機智能控制系統(tǒng)，全封閉壓縮機制冷，主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵幾大件組成，具有提供低溫液體、低溫水浴的作用；整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.5℃，用于石油化工、制藥、半導體工業(yè)、凍土研究及土木工程等領域內(nèi)的低溫和超低溫過程控制，科學研究和工程應用，化學反應、試驗、測量、校準、人工凍結(jié)及環(huán)境條件模擬等。

低溫恒溫循環(huán)槽 MD20-20可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。

超低溫恒溫槽（-60℃～90℃）應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用，可以提供熱冷受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃。

超低溫加熱制冷器（-80℃～90℃） 超低溫加熱制冷器應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用，可以提供熱冷受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃。

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃），MD20-12，容積12L，控溫范圍-20℃～90℃，高至溫度100℃，作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用.

低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～90℃）可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用。

低溫恒溫循環(huán)槽MD10-8 低溫恒溫槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

低溫恒溫水槽-5℃～90℃，MD5-30提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。